50W - 300W Импульсная лазерная очистительная масляная краска Удаление ржавчины лазерная очистительная машина
Место происхождения | Китай |
---|---|
Фирменное наименование | JPTECH |
Сертификация | CE、FDA、UL、RoHS、IEC 60825-1、ISO 13849 |
Номер модели | JPL-EFH50 ≈ 300 |
Количество мин заказа | 1 |
Упаковывая детали | Деревянный картон |
Время доставки | 7-10 дней |
Условия оплаты | L/C, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
Поставка способности | 10 комплектов в неделю |

Свяжитесь со мной для бесплатных образцов и купонов.
Ватсап:0086 18588475571
WeChat: 0086 18588475571
скайп: sales10@aixton.com
Если у вас есть какие-либо проблемы, мы предоставляем круглосуточную онлайн-помощь.
xФункция | Металлическая древесина Лазерная очистка поверхности ржавчины | Лазерный источник | JPT, MAX |
---|---|---|---|
Способ охлаждения | Охлаждать охладителя воды | Ширина развертки | 10-600мм |
Способ очистки | Пульс | Лазерная длина волны | 1064 нм±10 нм |
Выделить | 50 Вт импульсный лазерный очиститель,Удаление краски импульсным лазерным очистителем,300 Вт лазерная очистная машина для удаления ржавчины |
50 Вт—300 Вт Импульсный лазерный очиститель для удаления масляной краски, ржавчины, прецизионных инструментов, лазерный очиститель
I. Введение в продукт
машина опционально: JPL-EFH50,JPL-EFH100S,JPL-EFH200,JPL-EFH300
Введение в JPL-EFH50:
Рабочая среда |
|
Содержание |
JPL-EFH50S |
Напряжение питания |
Однофазное 220 В±10%, 50/60 Гц переменного тока |
Потребляемая мощность |
<400Вт |
Температура рабочей среды |
5℃~40℃ |
Влажность рабочей среды |
≤80% |
Оптические параметры |
|
Средняя мощность лазера |
≥50 Вт |
Нестабильность мощности |
<5% |
Режим работы лазера |
Импульсный |
Ширина импульса |
10-500 нс |
Максимальная энергия одиночного импульса |
1,5 мДж |
Диапазон регулировки мощности (%) |
0-100( плавная регулировка) |
Частота повторения (кГц) |
1-3000 (плавная регулировка) |
Длина волокна |
3 м |
Режим охлаждения |
Воздушное охлаждение |
Параметры очищающей головки |
|
Диапазон сканирования (длина * ширина) |
0мм~100 мм, плавная регулировка; поддержка8 режимов сканирования |
Частота сканирования |
Максимум не менее 300 Гц |
Фокусное расстояние объектива (мм) |
160 мм (опционально 210 мм/254 мм/330 мм/420 мм) |
Глубина фокуса |
Около 5 мм |
Механические параметры |
|
Размер машины(Длина, ширина и высота) |
Около500 мм×240 мм×510 мм |
Вес машины |
Около 25кг |
Вес очищающей головки |
<0,75 кг |
Режим работы |
Ручной/автоматизированный |
Введение в JPL-EFH100S:
Рабочая среда |
|
Содержание |
JPL-EFH100S |
Напряжение питания |
Однофазное220 В±10%, 50/60 Гц переменного тока |
Потребляемая мощность |
≤800 Вт |
Температура рабочей среды |
5℃~40℃ |
Влажность рабочей среды |
≤80% |
Оптические параметры |
|
Средняя мощность лазера |
≥100 Вт |
Нестабильность мощности |
<5% |
Режим работы лазера |
Импульсный |
Ширина импульса |
10-500 нс |
Максимальная энергия одиночного импульса |
1,5 мДж |
Диапазон регулировки мощности (%) |
0-100( плавная регулировка) |
Частота повторения (кГц) |
1-3000 (плавная регулировка) |
Длина волокна |
5 м |
Режим охлаждения |
Воздушное охлаждение |
Параметры очищающей головки |
|
Диапазон сканирования (длина * ширина) |
0 мм-100 мм, плавная регулировка; поддержка 8 режимов сканирования |
Частота сканирования |
Максимум не менее 300 Гц |
Фокусное расстояние объектива (мм) |
160 мм (опционально 210 мм/254 мм/330 мм/420 мм) |
Глубина фокуса |
Около 5 мм |
Механические параметры |
|
Размер машины(Длина, ширина и высота) |
Около 770 мм*375 мм*800 мм |
Размер после упаковки (длина, ширина и высота) |
Около 870 мм*480 мм*960 мм |
Вес машины |
Около 65 кг |
Вес после упаковки |
Около 85 кг |
Вес очищающей головки |
<0,75 кг |
Режим работы |
Ручной/автоматизированный |
Введение в JPL-EFH200:
Импульсная лазерная очистительная система JPL-EFH-200 может использоваться для очистки от оксидов, покрытий, масла, ржавчины, покрытий и других загрязнений поверхности различных металлических подложек (титановый сплав, алюминиевый сплав, суперсплав, нержавеющая сталь, углеродистая сталь и т. д.), полупроводниковых материалов и других сложных поверхностных деталей. Лазерная очистка, работающая в диапазоне оконных параметров, может удалять загрязнения, не повреждая подложку. Оборудование использовалось в авиации, аэрокосмической промышленности, судостроении, автомобилестроении, электронной промышленности и других областях.
Электропитание (В) |
220 В±10%, 50/60 Гц |
Мощность всей машины (Вт) |
< 2300 |
рабочая температура (℃) |
+10 to +40 |
температура хранения (℃) |
-20 to +60 |
Основные технические характеристики:
-
В лазерном источнике используется высокоэффективный и высокоинтегрированный наносекундный импульсный волоконный лазер, средняя выходная мощность которого составляет 200 Вт, а максимальная мгновенная пиковая мощность может достигать мегаватт.
-
Короткий импульсный источник света на наносекундном уровне может уменьшить нагрев очищаемых деталей и в основном реализовать «холодную обработку».
-
Механизм очистки заключается в выборе поглощения при рабочих условиях оконных параметров для обеспечения эффективного удаления загрязняющих веществ без повреждения или изменения подложки.
-
Оборудование использует оптоволоконную передачу, легкую и гибкую. Лазерная головка, оснащенная оборудованием, может быть установлена на манипуляторе для обеспечения эффективной и автоматической очистки.
-
В лазерной головке используется высокоскоростной вибратор для преобразования точечного источника света в линейный источник света для достижения более эффективной очистки.
-
Высококачественные детали и аксессуары, все детали используют международные известные бренды для обеспечения качества.
-
Зеленая защита окружающей среды, не загрязняет окружающую среду, признана в мире самой экологически чистой промышленной очисткой.
-
Лучшая в мире технологическая поддержка, команда докторов и магистров, вернувшихся на родину, всесторонняя техническая поддержка процесса.
Введение в JPL-EFH300:
Основные технические характеристики:
-
бесконтактная очистка без повреждения матрицы деталей.
-
точная очистка, может обеспечить точное положение, точную выборочную очистку по размеру.
-
не требует каких-либо химических чистящих жидкостей, без расходных материалов, безопасность и защита окружающей среды.
-
простота в эксплуатации, ручная или с манипулятором для достижения автоматической очистки.
-
эргономичный дизайн, интенсивность труда при эксплуатации значительно снижена.
-
конструкция тележки, с собственным движущимся колесом, легко перемещается.
-
Высокаяэффективность очистки, экономия времени.
-
лазерная очистительная система стабильна и требует небольшого обслуживания.
Рабочая среда |
|
Содержание |
JPL-EFH300M |
Напряжение питания |
Однофазное 220 В±10%, 50/60 Гц переменного тока |
Потребляемая мощность |
≤2000 Вт |
Температура рабочей среды |
5℃~40℃ |
Влажность рабочей среды |
≤80% |
Оптические параметры |
|
Средняя мощность лазера |
>300 Вт |
Нестабильность мощности |
<5% |
Режим работы лазера |
Импульсный |
Ширина импульса |
2-500 нс |
Максимальная энергия одиночного импульса |
5 мДж |
Диапазон регулировки мощности (%) |
0-100( плавная регулировка) |
Частота повторения (кГц) |
1-4000 (плавная регулировка) |
Длина волокна |
5 м |
Режим охлаждения |
Воздушное охлаждение |
Параметры очищающей головки |
|
Диапазон сканирования (длина * ширина) |
0 мм~145 мм, плавная регулировка; поддержка 8 режимов сканирования |
Частота сканирования |
Максимум не менее 300 Гц |
Фокусное расстояние объектива (мм) |
210 мм (опционально 160 мм/254 мм/330 мм/420 мм) |
II. Основные преимущества лазерной очистительной машины
Импульсная лазерная очистительная машина — это бесконтактная технология, которая использует короткие импульсы высокоэнергетического лазерного света для удаления загрязнений с поверхностей и особенно подходит для высокоточных, экологически чистых применений.
1) Неразрушающие основные материалы
Принцип: Регулируя ширину импульса (уровень нс/пс/фс) и плотность энергии, применяются только поверхностные загрязнения (ржавчина, краска, оксидная пленка и т. д.) без повреждения металлической/композитной подложки.
Сравнение с традиционными методами:
Абразивоструйная обработка: имеет тенденцию вызывать царапины и деформацию подложки (например, тонкостенные детали).
Химическая очистка: может вызывать коррозию материалов или оставлять химические остатки.
Типичные области применения: Реставрация культурных реликвий, очистка полупроводниковых пластин, обеззараживание прецизионных форм.
2) Сверхвысокая точность (микронный контроль)
Регулируемое пятно: Диаметр сфокусированного пятна до 0,01 мм (10 мкм) для очистки сложных микроструктур (например, шлак печатной платы, текстура лопасти двигателя).
Многослойная очистка: Удаляет загрязнения слой за слоем (например, удаление окисленных слоев при реставрации масляной живописи).
Пример: очистка покрытия турбинной лопатки в аэрокосмической промышленности с точностью ±5 мкм.
3) Экологичность и отсутствие загрязнения
Нет химикатов: не требуются кислотные или щелочные растворители, что позволяет избежать проблем с утилизацией токсичных отходов (соответствует RoHS/REACH).
Отсутствие вторичных отходов: загрязняющие вещества непосредственно испаряются или преобразуются в собираемую пыль (оснащены системой всасывания).
Сравните преимущества:
Очистка сухим льдом: генерирует выбросы CO₂.
Ультразвуковая очистка: потребляет раствор для химической очистки.
4) Эффективность и гибкость (бесконтактная)
Скорость очистки: до 5-20 м²/ч (в зависимости от типа загрязнения и мощности лазера).
Применимые формы: очистка канавок, отверстий, резьбы и других труднодоступных мест.
Интеграция автоматизации: Адаптируется к роботизированным рукам или сборочным линиям (например, очистка сварных швов в автомобилестроении).
5) Универсальность (широкий спектр материалов)
Тип материала
|
Технические основы
|
|
металл | Ржавчина, масляные пятна, сварочный шлак, покрытия | Отрегулируйте длину волны (1064 нм/532 нм), чтобы избежать абляции |
композитный материал
|
Остатки клея, заусенцы из углеродного волокна | Низкая плотность энергии предотвращает расслоение |
Слой черной оболочки, биологические прикрепления | Ультрафиолетовый лазер (355 нм) не оказывает термического воздействия | |
электронные компоненты
|
Фемтосекундные импульсы предотвращают повреждение цепи |
6) Долгосрочные преимущества по стоимости
Стоимость расходных материалов: Требуется только электричество, нет абразивных/химических затрат.
Простота обслуживания: Срок службы волоконного лазера >100 000 часов, плановое техническое обслуживание требует только очистки оптики.
Комплексные преимущества: Хотя цена оборудования за единицу высока, долгосрочная отдача лучше, чем у традиционных методов (например, снижение процента брака более чем на 30%).
III. Сравнение отраслевых применений
Отрасль | Традиционный метод очистки | Преимущество лазерной импульсной очистки |
|
Пескоструйная обработка + химическое обезжиривание | Скорость очистки сварного шва перед сваркой увеличивается на 50%, отсутствует риск деформации кузова |
|
|
Оксидный слой титановых сплавов удаляется для предотвращения коррозии под напряжением |
|
Ультразвук + спирт | Клей для упаковки микросхем очищается без статического повреждения |
ремонт культурных реликвий | Механическое соскабливание | Миллиметровая точная очистка сохраняет исходные узоры |
IV. Рекомендации по выбору технических параметров
- ширина импульса:
Наносекунды (нс): экономичный общего назначения (удаление ржавчины, краски).
Пикосекунды/фемтосекунды (пс/фс): сверхточная очистка (полупроводники, артефакты).
2. Выбор длины волны лазера:
1064 нм (ИК): Эффективная очистка металлических материалов.
355 нм (УФ): Чувствительные материалы (полимеры, старинные картины).
3. диапазон мощности:
50-200 Вт: подходит для небольших прецизионных деталей.
500-1000 Вт: промышленная очистка больших площадей (например, палуба корабля).
V. Заключение
Лазерная импульсная очистка — это революционная технология, заменяющая традиционный процесс, основное преимущество — «точность, защита окружающей среды, неразрушающая», особенно подходит для следующих сценариев:
- Высокоценные заготовки (например, детали авиационных двигателей)
- Отрасли с жесткими экологическими нормами (например, электроника, медицина)
- Потребности в очистке на микронном уровне (например, оптические линзы, микросхемы)