50W - 300W 펄스 레이저 클리너 오일 페인트 러스트 제거 레이저 청소 기계

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x기능 | 금속 나무 녹 표면 레이저 청소 | 레이저 소스 | JPT, 맥스 |
---|---|---|---|
냉각 방법 | 수냉기 냉방 | 스캔폭 | 10-600mm |
청소 방법 | 맥박 | 레이저 파장 | 1064nm±10nm |
강조하다 | 50W 펄스 레이저 클리너,펄스 레이저 클리너 페인트 제거,300W 강철 제거 레이저 청소 기계 |
50W —300W 펄스 레이저 청소 기계 유일 페인트 녹 제거 정밀 기기 레이저 클리너
I. 제품 소개
기계 선택적: JPL-EFH50, JPL-EFH100S, JPL-EFH200, JPL-EFH300
JPL-EFH50 소개 :
운영 환경 |
|
콘텐츠 |
JPL-EFH50S |
공급 전압 |
단일 상 220V ± 10%, 50/60Hz AC |
전력 소비 |
< 400w |
작업 환경 온도 |
5℃~ 40 ℃ |
작업 환경 습도 |
≤80% |
광학 매개 변수 |
|
평균 레이저 파워 |
≥50W |
전력 불안정성 |
<5비율 |
레이저 작업 모드 |
맥박 |
맥박 너비 |
10-500ns |
최대 모노 펄스 에너지 |
1.5mj |
전력 규제 범위 (%) |
0-100 (그라디언트 조정 가능) |
반복 주파수 (KHZ) |
1-3000 (그라디언트 조정 가능) |
섬유 길이 |
3m |
냉각 모드 |
공기 냉각 |
청소 헤드 매개 변수 |
|
스캔 범위 (길이 * 너비) |
0mm ~100mm, 연속 조절 가능; 지원8 스캔 모드 |
스캔 주파수 |
최대 값은 300Hz 이상입니다 |
필드 미러 초점 길이 (mm) |
160mm (선택 사항 210mm/254mm/330mm/420mm)) |
초점 깊이 |
에 대한5 mm |
기계적 매개 변수 |
|
기계 크기(길이, 너비 및 높이)) |
에 대한500mm×240mm×510mm |
기계 무게 |
에 대한 25kg |
청소 머리 중량 |
<0.75kg |
작동 방식 |
핸드 헬드/자동화 |
JPL-EFH100S 소개 :
운영 환경 |
|
콘텐츠 |
JPL-EFH100S |
공급 전압 |
단일 단계220V ± 10%, 50/60HzAC |
전력 소비 |
≤800W |
작업 환경 온도 |
5 ℃~ 40 ℃ |
작업 환경 습도 |
≤80% |
광학 매개 변수 |
|
평균 레이저 파워 |
≥100W |
전력 불안정성 |
5% |
레이저 작업 모드 |
맥박 |
맥박 너비 |
10-500ns |
최대 모노 펄스 에너지 |
1.5mj |
전력 규제 범위 (%) |
0-100 (그라디언트 조정 가능) |
반복 주파수 (KHZ) |
1-3000 (그라디언트 조정 가능) |
섬유 길이 |
5m |
냉각 모드 |
공기 냉각 |
청소 헤드 매개 변수 |
|
스캔 범위 (길이 * 너비) |
0mm-100mm, 연속 조절 가능; 8 개의 스캔 모드를 지원합니다 |
스캔 주파수 |
최대 값은 300Hz 이상입니다 |
필드 미러 초점 길이 (mm) |
160mm (옵션 210mm/254mm/330mm/420mm) |
초점 깊이 |
에 대한 5 mm |
기계적 매개 변수 |
|
기계 크기 (길이, 너비 및 높이)) |
에 대한770mm*375mm*800mm |
포장 후 크기 (길이, 너비 및 높이) |
에 대한870mm*480mm*960mm |
기계 무게 |
에 대한65kg |
포장 후 무게 |
에 대한85kg |
청소 머리 중량 |
< 0.75kg |
작동 방식 |
핸드 헬드/자동 |
JPL-EFH200 소개:
JPL-EFH-200 펄스 레이저 세정 시스템은 다양한 금속 기판 (티타늄 합금, 알루미늄 합금, 초 합금, 슈퍼 합금, 스테인리스 스틸, 탄소강 등), 반도체 재료 및 기타 복잡한 표면 부품 표면 산화물, 코팅, 오일, 녹 코팅 및 기타 세정에 사용될 수 있습니다. 윈도우 매개 변수의 범위에서 작동하는 레이저 청소는 기판을 손상시키지 않고 오염 물질을 제거 할 수 있습니다. 이 장비는 항공, 항공 우주, 조선, 자동차, 전자 산업 및 기타 분야에 사용되었습니다.
주 전원 공급 장치 (V) |
220V ± 10%, 50/60Hz |
완전한 기계 전원 (W) |
<2300 |
작업 온도 (℃) |
+10 ~ +40 |
저장 온도 (℃) |
-20 ~ +60 |
주요 기술 특성 :
-
레이저 소스는 고효율과 높은 통합 나노초 펄스 섬유 레이저를 사용하며 평균 출력 전력은 200 와트이며 최대 순간 피크 전력은 메가 와트에 도달 할 수 있습니다.
-
나노초 수준의 짧은 맥박 광원은 청소 부품의 가열을 줄이고 기본적으로 "냉간 처리"를 실현할 수 있습니다.
-
세척 메커니즘은 기판을 손상 시키거나 변형시키지 않고 오염 물질의 효과적인 제거를 보장하기 위해 윈도우 매개 변수의 작업 조건 하에서 흡수를 선택하는 것입니다.
-
장비는 광섬유 전도, 가볍고 유연한 것을 채택합니다. 장비가 장착 된 레이저 헤드는 기계 암에 설치하여 효율적이고 자동 청소를 실현할 수 있습니다.
-
레이저 헤드는 고속 진동기를 사용하여 포인트 광원을 라인 광원으로 변환하여보다 효율적인 청소를 달성합니다.
-
고품질 부품 및 액세서리, 모든 부품은 국제 유명 브랜드를 사용하여 품질을 보장합니다.
-
녹색 환경 보호 오염이없는 세계는 가장 녹색 환경 보호 산업 청소를 인식했습니다.
-
세계 최고의 프로세스 지원, 귀환 닥터 마스터 팀 포괄적 인 프로세스 기술 지원.
JPL-EFH300 소개 :
주요 기술 특성 :
-
부품의 매트릭스를 손상시키지 않고 비접촉 청소.
-
정확한 청소, 정확한 위치, 정확한 크기 선택적 세척을 달성 할 수 있습니다.
-
화학 청소 액체, 소모품, 안전 및 환경 보호가 필요하지 않습니다.
-
자동 청소를 달성하기 위해 간단한 작동, 핸드 헬리 또는 조작기와 함께.
-
인체 공학 설계, 운영 노동 강도는 크게 감소했습니다.
-
트롤리 디자인, 자체 이동 휠이있는 이동이 쉬워집니다.
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높은청소 효율, 시간 절약.
-
레이저 청소 시스템은 유지 보수가 거의 없어서 안정적입니다.
운영 환경 |
|
콘텐츠 |
JPL-EFH300M |
공급 전압 |
단일 상 220V ± 10%, 50/60Hz AC |
전력 소비 |
≤2000W |
작업 환경 온도 |
5 ℃~ 40 ℃ |
작업 환경 습도 |
≤80% |
광학 매개 변수 |
|
평균 레이저 파워 |
> 300W |
전력 불안정성 |
5% |
레이저 작업 모드 |
맥박 |
맥박 너비 |
2-500ns |
최대 모노 펄스 에너지 |
5MJ |
전력 규제 범위 (%) |
0-100 (그라디언트 조정 가능) |
반복 주파수 (KHZ) |
1-4000 (그라디언트 조정 가능) |
섬유 길이 |
5m |
냉각 모드 |
공기 냉각 |
청소 헤드 매개 변수 |
|
스캔 범위 (길이 * 너비) |
0mm ~ 145 mm, 지속적으로 조정 가능; 8 개의 스캔 모드를 지원합니다 |
스캔 주파수 |
최대 값은 300Hz 이상입니다 |
필드 미러 초점 길이 (mm) |
210mm (옵션 160mm/254mm/330mm/420mm) |
II. 레이저 청소 기계의 주요 장점
펄스 레이저 클리닝 마친은 고 에너지 레이저 조명의 짧은 펄스를 사용하여 표면에서 오염 물질을 제거하고 특히 고정밀, 환경 친화적 인 응용 분야에 적합한 비접촉 기술입니다.
1) 비파괴 적 기본 재료
원칙: 펄스 폭 (NS/PS/FS 레벨)과 에너지 밀도를 조정하면 금속/복합 기판을 손상시키지 않으면 서 표면 오염 물질 (녹, 페인트, 산화 필름 등) 만 적용됩니다.
전통적인 방법과 비교하십시오:
연마적인 폭발: 기판 (예 : 얇은 벽 부품)의 긁힘과 변형을 일으키는 경향이 있습니다.
화학 청소: 재료를 부식 시키거나 화학 잔류 물을 남길 수 있습니다.
일반적인 응용 프로그램: 문화 유물의 복원, 반도체 웨이퍼 청소, 정밀 금형의 오염 제거.
2) 초고 정밀도 (미크론 수준 제어)
스팟 조절 가능: 복잡한 미세 구조를 청소하기 위해 최대 0.01mm (10μm)의 스팟 직경 (예 : 회로 보드 슬래그, 엔진 블레이드 텍스처).
계층 청소: 층별로 오염 물질 층을 벗겨냅니다 (예 : 유화 복원에서 산화 된 층을 제거).
예: ± 5μm 정확도를 가진 항공 우주 터빈 블레이드 코팅 세정.
3) 환경 친화적 및 비 폴 루팅
화학 물질 없음: 독성 폐기물 처리 문제를 피하기 위해 산 또는 알칼리 용매가 필요하지 않습니다 (ROHS/REACH 준수).
이차 폐기물이 없습니다: 오염 물질은 직접 기화되거나 수집 가능한 먼지로 전환됩니다 (흡입 시스템 장착).
장점을 비교하십시오:
드라이 아이스 클리닝: coiss 배출량을 생성합니다.
초음파 청소: 화학 청소 용액을 소비합니다.
4) 효율적이고 유연한 (비접촉)
청소 속도: 최대 5-20m²/h (오염 물질 및 레이저 전력의 유형에 따라 다름).
적용 가능한 모양: 그루브, 구멍, 실 및 기타 연락하기 어려운 지역의 청소.
자동화 통합: 로봇 암 또는 어셈블리 라인에 적응할 수 있습니다 (예 : 자동차 프리 웰드 이음새 청소).
5) 다양성 (광범위한 재료)
재료 유형
|
기술적 인 필수
|
|
금속 | 녹, 오일 얼룩, 용접 슬래그, 코팅 | 절제를 피하기 위해 파장 (1064nm/532nm)을 조정하십시오 |
복합 재료
|
잔류 접착제, 탄소 섬유 버 | 낮은 에너지 밀도는 계층화를 방지합니다 |
블랙 쉘 층, 생물학적 부착 | 자외선 레이저 (355nm)는 열 효과가 없습니다 | |
전자 구성 요소
|
펨토초 펄스는 회로 손상을 방지합니다 |
6) 장기 비용 이점
소모품 비용: 전기 만 필요하며 연마/화학 소비가 필요하지 않습니다.
쉬운 유지 보수: 섬유 레이저 수명> 100,000 시간, 일상적인 유지 보수에는 광학 청소 만 있으면됩니다.
포괄적 인 혜택: 장비의 단가는 높지만 장기 수익률은 기존 방법보다 낫습니다 (예 : 스크랩 속도를 30%이상 줄임).
III. 산업 응용 분야의 비교
산업 | 전통적인 청소 방법 | 레이저 펄스 세정 장점 |
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샌드 블라스팅 + 화학 탈지 | 용접하기 전 용접 이음새의 청소 속도는 50%증가하며 흰색 바디의 변형 위험이 없습니다. |
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스트레스 부식을 방지하기 위해 티타늄 합금 성분의 산화물 층을 제거합니다. |
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초음파 + 알코올 | 칩 포장 접착제는 정적 손상없이 청소됩니다 |
문화 유물 수리 | 기계적 스크래핑 | 밀리미터 수준의 정밀한 청소는 원래 패턴을 유지합니다 |
IV. 기술 매개 변수 선택에 대한 제안
- 맥박 너비 :
나노 초 (NS) : 경제 총재 (녹 제거, 페인트).
피코 초/펨토초 (PS/FS) : 초 충전 세정 (반도체, 아티팩트).
2. 레이저 파장 선택 :
1064nm (IR) : 금속 물질의 효율적인 세척.
355nm (UV) : 민감한 물질 (폴리머, 골동품 그림).
3. 전력 범위 :
50-200W : 작은 정밀 부품에 적합합니다.
500-1000W : 산업 등급 대기업 청소 (예 : 선박 데크).
다섯.결론
레이저 펄스 청소는 전통적인 프로세스를 대체하는 혁신적인 기술이며, 핵심 장점은“정밀, 환경 보호, 비파괴 적”이며, 특히 다음 시나리오에 적합합니다.
- 고 부가가치 워크 피스 (예 : 항공기 엔진 부품)
- 엄격한 환경 규제가있는 산업 (예 : 전자 장치, 의료)
- 미크론 수준의 청소 요구 (예 : 광학 렌즈, 칩)